Osiadanie powłok

Osiadanie powłoki na skutek odparowania rozcieńczalnika.

Przyczyny
  • nakładanie zbyt grubych warstw podkładu,
  • niewłaściwa ilość rozcieńczalnika (podkłady HS),
  • pierwsza warstwa podkładu za gruba,
  • zbyt krótki czas suszenia,
  • niewystarczające wyschnięcie podkładu i szpachlówki,
  • zbyt cienka warstwa izolacyjna.
Zapobieganie
  • przeprowadzić test rozpuszczalnikowy,
  • odizolować dwuskładnikowym podkładem gruntującym nakładanym kilkoma cienkimi warstwami z zachowaniem czasów odparowania,
  • unikać przeszlifowania warstwy nawierzchniowej.
Naprawa
Przeszlifować i ponownie polakierować.

Strona stosuje pliki cookies. Korzystanie ze strony oznacza zgodę na wykorzystanie plików cookies zgodnie z Polityką cookies.